1樓：
Free electron laser 可以用於光刻領域的光源部分。
核心問題是當前乙個FEL裝置不適用於量產。
1. 乙個FEL裝置的大小近視（大於）一整個停車場。且輸出功率高:
10+臺光刻裝置同時使用(意味著10MW以上的功率)。如果這個複雜裝置出現了小問題（需要維護或者檢修），如何保證它支援的光刻機依然正常運轉？（畢竟每台euv每小時能產生價值是近72000歐）
2. 有不少公司在研發，相信在未來FEL一定在光源產生領域大有所為。但是現在五年內應該沒有工業化的可能
2樓：乙隻鳥
可以用於，而且有極大的發展前景，甚至是光刻機未來的發展方向之一，甚至可以用於開發X雷射直寫晶元，如果能把產品做出來並商業化，那絕對是革命性和顛覆性的發展。
但同樣還是有非常多的問題難以解決。乙個是自由電子雷射器本身極大，一台自由電子雷射器的尺寸往往是在百公尺量級；另外乙個是成本極高，僅僅雷射器造價，成本都是幾十億到上百億的造價，而要用於加工那後續的成本會更高，這麼對比asml的裝置也就是個零頭。
所以自由電子雷射領域有個比較大的方向就是低成本和小型化，如果做成了那用於加工也就不遠了。
3樓：kaiw.wang
同問，在美國阻撓asml出口euv光刻機的今天，如果有機會兜出來一台哪怕是原理樣機，對中國突破困局意義重大
如果能將裝置平台共享有助於其他配套企業(光刻膠，掩膜)提前進行測試研究
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