1樓：Erin
膜料點不良也是鍍膜產品的乙個常見問題，在日企、台企把膜料點稱為「斑孔」，顧名思義，膜料點就是蒸鍍中，大顆粒膜料點隨著膜料蒸汽分子一起蒸鍍到了基片的表面，在基片表面形成點狀的突起，有時是個別點，嚴重時是成片的細點，大顆粒點甚至可以打傷基片表面。
各種膜料的蒸發特性是不一樣的，特別是熔點溫度和蒸發溫度有很大差異
熔點溫度大於蒸發溫度的材料，由固態直接氣化蒸發，是昇華材料；
熔點溫度小於蒸發溫度的材料，由固態先化成液態爾後在轉換成氣態蒸發，是非昇華材料；
熔點溫度與蒸發溫度相當的材料，由固態到氣態蒸發，邊融化邊蒸發。是半昇華材料。
其中非昇華材料最容易產生膜料點，因為液態的膜料繼續加熱會沸騰，沸騰中膜料中的氣泡溢位，飛濺膜料點的可能性加大。有時在材料預熔時就有很大的飛濺。
膜料受潮，預熔或蒸鍍時水汽逸出，也會造成飛濺產生。
下表是幾種常用膜料的昇華特性
膜料不純、膜料參雜，即膜料中有了熔點溫度、蒸發溫度不一致的材料，這也是膜料點產生的原因。
改善思路：選用好的膜料、充分預溶、控制速率。
改善對策：
㈠ 選擇雜質少的膜料
㈡ 對易飛濺的膜料選擇顆粒合適的膜料
㈢ 膜料在鍍前用網篩篩一下
㈣ 精心預熔，MgF2務必熔透一次蒸鍍所需膜料，而Ta2O5 和TiO2必須徹底熔透。
㈤ 用一把電子槍鍍製幾種膜料時，防治坩堝轉動中膜料參雜及擋板掉下膜料渣造成膜料汙染。一旦發現坩堝膜料有汙染，應立即更換。
㈥ 盡最大可能使蒸發舟、坩堝乾淨。（勤打掃）。
㈦ 選擇合適的蒸發速率及速率曲線的平滑。特別是非昇華材料，蒸發速率不宜高。
㈧ 膜料去潮，將待用膜料用培養皿盛放在真空室乾燥
注意：有時膜層內有一些細小的點子，有可能不是膜料點，而是灰塵點，處理的方法與膜料點不良是不同的，應嚴格區分，分別處理。
2樓：中諾新材
濺射發生在靶材表面，靶材表面物理狀態不均勻也沒有關係，濺射的時候會先濺射凸起，濺射時間長了，靶材自己就平了。所以物理不均勻的狀態不需要拋光。
濺射過程不影響靶材合金、混合材質的比例和性質，所以如果是表面容易變質的靶材，如果不拋光去除表面變質部分，沉積到基材上的膜層性質就是表面變質的雜質。
有一部分靶材在安裝之前需要拋光，比如鋁靶材等活性金屬靶材，長期暴露在大氣中，表面容易形成一層氧化皮，在直流脈衝、中頻濺射過程中，離子撞擊的能不足以破壞氧化皮，所以一般在濺射的時候進行物理拋光。一般靶材拋光後，濺射速率、電壓等工藝引數比較穩定，容易控制。
所以結論就是，活性金屬靶材要求表面拋光，不活潑金屬靶材不一定非要求表面拋光。其他非金屬的靶材不需要拋光。