1樓：郭某某
在我的理解，應該叫做「不需要高階光刻機」。
做電極、做佈線這些都是需要光刻工藝的。碳基與矽基的主要區別在於：
矽基半導體這樣，以mos管為例，需要極細微的光刻工藝去製作柵線條，即所謂的5nm、7nm工藝，所以才說EUV光刻機卡脖子。
碳基，用碳奈米管做「溝道」，實質上是操控碳奈米管，而不是在乙個圓片上用高階光刻工藝製作線條。另外同等製程下，碳基的速度相比矽基也有質的提公升，也等效於特徵尺寸的進一步降低。
2樓：破碎圖騰
因為人也是碳基的呀！
之前的晶元需要光刻，是因為晶元是Ge的或者是Si的，甚至還有III-V化合物的，而人是碳基的，這加工起來就麻煩了；本來掰飭一下就好的事情，不是乙個基的，不能直接上手啊！
現在搞碳基晶元了，加工者被加工者大家是乙個基的了，那幹起活來基情澎湃、手到擒來，當然就用不上光刻機了。
另外，光刻機太反動了，既不是碳基的，也不是Ge基、Si基、III-V化合物基...的，怎麼配來加工晶元呢？！
3樓：狼牙土豆
只要碳基晶元還是半導體，碳基晶元就同樣需要光刻機或電子束蝕刻來固定電極。
建議去找那個告訴你碳基晶元不需要光刻機的人，然後告訴他耗子尾汁。
碳基晶元存在的意義是同等工藝下，效能大大超越矽基晶元，也就是說可以用14nm達到7nm甚至5nm水平(只是舉例)，而越是高階工藝，越是國家的痛點。所以郭嘉才會押寶碳基晶元。
並不是為了避開光刻機！
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